发明名称 压敏粘着性光学薄膜及影像观视显示器
摘要 一种压敏粘着性光学薄膜,其具有好的再加工性且进一步具有优良的耐湿热性,其在所提供的热及湿润处理下不会发泡或剥落。该压敏粘着性光学薄膜在该光学薄膜的至少一边表面上积层有一压敏粘着层,其中P0值不高于5牛顿/25毫米(其中将该压敏粘着层黏附在一玻璃板上,将其在50℃×5大气压×15分钟之条件下提供热压处理,将其留在23℃之周围环境中30分钟,随后,在23℃下及以300毫米/分钟的剥除速度测量起始的90°剥除强度之P0),及P1与P0的比率(P1/P0)不小于2(其中在该压敏粘着层提供上述提及的热压处理后,其进一步在80℃下提供热处理2小时,随后,将其留在23℃之周围环境中30分钟,及在加热后,以300毫米/分钟的剥除速度及在23℃下测量90°剥除强度之P1)。
申请公布号 TWI279428 申请公布日期 2007.04.21
申请号 TW092108534 申请日期 2003.04.14
申请人 日东电工股份有限公司 发明人 马场纪秀;南崎喜博;佐竹正之;神谷克彦
分类号 C09J7/02(2006.01);G02B5/30(2006.01);G02F1/1335(2006.01) 主分类号 C09J7/02(2006.01)
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项 1.一种压敏粘着性光学薄膜,其在该光学薄膜的至 少一边表面上积层有一压敏粘着层,其中该光学薄 膜满足下述条件: P0値不高于5牛顿/25毫米(其中将该压敏粘着层黏附 在一玻璃板上,在50℃x5大气压x15分钟之条件下提 供热压处理,然后留在23℃的周围环境下30分钟,随 后在23℃下及以300毫米/分钟的剥除速度测量起始 的90剥除强度之P0);及 P1与P0之比率(P1/P0)不小于2(其中在该压敏粘着层提 供热压处理后,进一步在80℃下提供热处理2小时, 随后将其留在23℃的周围环境中30分钟,在加热后, 以300毫米/分钟的剥除速度及在23℃下测量90剥除 强度之P1)。 2.如申请专利范围第1项之压敏粘着性光学薄膜,其 中 在潜变试验中的位移距离不小于100微米(其中将该 压敏粘着层黏附至一玻璃板,其黏附面积为10毫米 10毫米,及在剪切方向上对该玻璃板施加4.9牛顿的 负载1小时,随后测量该压敏粘着层之位移距离)。 3.如申请专利范围第1项之压敏粘着性光学薄膜,其 中 该压敏粘着层为一经表面改质的压敏粘着层,其已 化学地固定显示出对玻璃板具粘着反应性之官能 基团及/或部分。 4.如申请专利范围第3项之压敏粘着性光学薄膜,其 中 该对玻璃板显示出粘着反应性之官能基团及/或部 分具有至少一种选自于矽醇基团及烷氧基矽烷基 之官能基团。 5.如申请专利范围第3项之压敏粘着性光学薄膜,其 中 该压敏粘着层之表面改质可藉由在具有该些官能 基团及/或部分及官能基团(b)的表面改质材料,与 该压敏粘着层的官能基团(a1)及/或事先形成在该 压敏粘着层之表面上的反应中间层之官能基团(a3) 间的界面接触反应而进行。 6.一种光学薄膜用之压敏粘着剂,其可形成一如申 请专利范围第1至5项中任一项之压敏粘着性光学 薄膜的压敏粘着层。 7.一种影像观视显示器,其使用如申请专利范围第1 至5项中任一项之压敏粘着性光学薄膜。 图式简单说明: 第1图为本发明之光学薄膜的截面图实例; 第2图为本发明之其它光学薄膜的截面图实例; 第3图为液晶显示器之截面图实例;及 第4图为其它液晶显示器之截面图实例。
地址 日本