发明名称 基板定位平台
摘要 一种基板定位平台,用以承载复数个基板于复数个基板固定区中。此基板定位平台至少包括:设置于每一个基板固定区中之复数个真空孔、分别环绕此些真空孔之复数个凹槽、及分别设置于凹槽中复数个防滑元件,用以接触每一个基板之表面。此基板定位平台系使用抽真空的方式来固定每一个基板,而每一个基板之一直角顶角实质对齐于每一个基板固定区的一直角角落。
申请公布号 TWI279388 申请公布日期 2007.04.21
申请号 TW094136774 申请日期 2005.10.20
申请人 友达光电股份有限公司 发明人 范咏达;张正龙;胡泉冬;纪慕雅
分类号 B65H9/00(2006.01);G02F1/133(2006.01) 主分类号 B65H9/00(2006.01)
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼
主权项 1.一种基板定位平台,具有复数个基板固定区,用以 承载复数个第一基板,其中该基板定位平台至少包 括: 复数个第一真空孔,设置于每一该些基板固定区中 ,用以使用抽真空的方式来固定每一该些第一基板 ,并使每一该些第一基板之一顶角实质对齐于每一 该些基板固定区的一角落; 复数个第一凹槽,分别环绕该些第一真空孔;以及 复数个第一防滑元件,分别设置于该些第一凹槽中 ,用以接触每一该些第一基板之一表面。 2.如申请专利范围第1项所述之基板定位平台,更至 少包括: 复数个第二真空孔,设置于每一该些基板固定区之 中,用以使用抽真空的方式来加强固定每一该些第 一基板,其中该些第二真空孔之大小系相异于该些 第一真空孔之大小; 复数个第二凹槽,分别环绕该些第二真空孔;以及 复数个第二防滑元件,分别设置于该些第二凹槽中 ,用以接触每一该些第一基板之该表面。 3.如申请专利范围第1项所述之基板定位平台,其中 该些第一真空孔系位于该些基板固定区的该角落 之至少一侧边。 4.如申请专利范围第1、2或3项所述之基板定位平 台,更至少包括: 至少一个堵塞元件,设置于部分该些第一真空孔中 。 5.如申请专利范围第1、2或3项所述之基板定位平 台,更至少包括: 复数个定位元件,设置于该些基板固定区的至少一 边界上。 6.如申请专利范围第5项所述之基板定位平台,更包 括复数个定位孔,设置于该些基板固定区的该至少 一边界上,其中该些定位元件系设置于该些定位孔 上。 7.如申请专利范围第5项所述之基板定位平台,其中 该些第一防滑元件为复数个O型环。 8.如申请专利范围第1项所述之基板定位平台,其中 该些第一防滑元件为复数个O型环。 9.如申请专利范围第2项所述之基板定位平台,其中 该些第一防滑元件或该些第二防滑元件为复数个O 型环。 10.一种封合制程系统,适用于一液晶面板封合制程 ,至少包含: 如申请专利范围第1项所述之基板定位平台;以及 一抽真空装置,系用以将该些第一真空孔抽真空。 图式简单说明: 第1A图为绘示根据本发明之较佳实施例之基板定 位平台的俯视示意图。 第1B图为绘示根据本发明之较佳实施例之真空孔 装置的爆炸示意图。 第2图为绘示根据本发明之较佳实施例之封合制程 系统的结构示意图。
地址 新竹市新竹科学工业园区力行二路1号