| 主权项 |
1.一种用于电化学布置再生高锰酸盐蚀刻溶液之 阴极,其中该阴极(2)之表面上具有包含多孔性、不 导电层(7,8)及含有具+IV氧化数锰之包覆层(6)之复 合包覆层。 2.根据申请专利范围第1项之阴极,其中该阴极(2)系 以不导电层(7)完全包覆。 3.根据申请专利范围第1及2项中任一项之阴极,其 中该层(7)包括耐酸和/或硷之塑料材料。 4.根据申请专利范围第1及2项中任一项之阴极,其 中该层(7)包括紧固密合阴极(2)之织物(4、5)。 5.根据申请专利范围第1及2项中任一项之阴极,其 中该层(7)包括一种选自包含聚烯烃和聚全卤代烯 烃所组成之群之材料。 6.根据申请专利范围第1及2项中任一项之阴极,其 中该层(7)由一种选自包含聚丙烯、高密度聚乙烯 及聚四氟乙烯之群之材料组成。 7.根据申请专利范围第1及2项中任一项之阴极,其 中该阴极(2)系形成一棒。 8.一种制造用于布置电化学再生高锰酸盐蚀刻溶 液之阴极之方法,其中 a.对阴极体(3)提供以多孔性、不导电层(7); b.使具层(7)之阴极体(3)与含锰酸盐之硷性高锰酸 盐溶液接触; c.使阳极(1)与含锰酸盐之硷性高锰酸盐溶液接触; 及 d.藉助电流源使由阴极(2)和阳极(1)形成之电流环 路中以此种方式产生电流;不溶层(6)形成于阴极(2) 之表面上,该层(6)至少主要包含具+IV氧化数之锰。 9.根据申请专利范围第8项之方法,其中在进行方法 步骤d.时设置初始低电流,然后使电流进一步逐渐 增加。 10.一种用于电化学再生高锰酸盐蚀刻溶液之装置, 其包括 a.至少一个阳极(1); b.至少一个根据申请专利范围第1至7项中任一项之 阴极(2); c.一种用于该至少一个阳极(1)和至少一个阴极(2) 之电流源;以及 d.介于该电流源(一方面)和该至少一个阳极(1)及至 少一个阴极(2)(另一方面)间之导电线路。 11.根据申请专利范围第10项之装置,其中该至少一 个阴极(2)系形成一棒,该至少一个阳极(1)系形成为 多孔圆筒,各阴极(2)系轴对称布置于至少一个阳极 (1)之中心区域。 12.根据申请专利范围第10及11项中任一项之装置, 其中该至少一个阳极(1)由网形金属(expanded metal)组 成。 13.根据申请专利范围第10及11项中任一项之装置, 其中该至少一个阳极(1)之几何面积对该至少一个 阴极(2)之几何面积之比为至少3:1。 图式简单说明: 图1:再生装置中阳极/阴极偶合对之示意图; 图2:通过第一具体实施例中本发明阴极之横截面; 图3:通过第二具体实施例中本发明阴极之横截面 。 |
