发明名称 一种单栅双沟道像素结构
摘要 本发明公开了一种单栅双沟道像素结构,其中包括:一完成驱动的扫描配线和数据配线;两薄膜晶体管,两薄膜晶体管具有一栅极,两源极与一漏极,栅极和扫描配线电性连接,漏极与数据配线电性连接;一像素电极,该像素电极电性连接于两源极。本发明像素结构是采用两个薄膜晶体管对像素电极充电,相对于现有技术的像素结构中采用单个薄膜晶体管对像素电极充电,大幅度的提高了像素结构的充电能力;另外本发明能够保证Cgs整体的均一性,从而达到良好的显示效果;再者本发明如果一个薄膜晶体管遭到损坏,另一个仍能保持对像素电极的充电能力,从而降低了亮暗点的发生率。
申请公布号 CN1949513A 申请公布日期 2007.04.18
申请号 CN200610152884.8 申请日期 2006.11.06
申请人 京东方科技集团股份有限公司 发明人 何祥飞;彭志龙
分类号 H01L27/02(2006.01);H01L27/12(2006.01);H01L23/522(2006.01);G02F1/1368(2006.01) 主分类号 H01L27/02(2006.01)
代理机构 北京同立钧成知识产权代理有限公司 代理人 刘芳
主权项 1、一种单栅双沟道像素结构,其特征在于,包括:一完成驱动的扫描配线和数据配线;两薄膜晶体管,所述两薄膜晶体管具有一栅极,两源极与一漏极,所述的栅极和扫描配线电性连接,所述漏极与数据配线电性连接;一像素电极,该像素电极电性连接于两源极。
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