| 发明名称 | 蚀刻方法、由该方法制造的掩模、显示装置以及板状结构 | ||
| 摘要 | 提供一种方法用于在材料中精确的目标区内蚀刻图案，它包括在材料上选择性地沉积一种物质用于溶解该材料或与该材料起化学反应。可以从有喷嘴的这类打印头沉积微滴，可以从喷嘴以一系列微滴的形式喷射出该材料，如喷墨打印头。在优选的应用中，可以从覆盖光电发射有机聚合物(6)的有机绝缘体层蚀刻出一系列的脊部(40)。然后沉积导电层(42)和用溶剂清洗溶解有机绝缘体的脊部(40)，以便为电致发光显示装置提供可用作阴极的导电条阵列。通过组合，可以为显示装置制造阳极和阴极两者而不需光刻法，这对制造大面积显示装置是特别有利的。 | ||
| 申请公布号 | CN1311532C | 申请公布日期 | 2007.04.18 |
| 申请号 | CN01805193.6 | 申请日期 | 2001.10.15 |
| 申请人 | 精工爱普生株式会社 | 发明人 | 川濑健夫 |
| 分类号 | H01L21/311(2006.01);H01L51/40(2006.01) | 主分类号 | H01L21/311(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 崔幼平;章杜杲 |
| 主权项 | 1.一种用于蚀刻材料的方法，其包括：在一种下面的材料上方形成该材料，其中该材料包括有机材料；以及选择性地在该材料上沉积一物质，其中该物质包括能够溶解该有机材料的溶剂，由此选择性地暴露出下面的材料。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||