发明名称 |
等离子体处理装置 |
摘要 |
本发明提供一种配置有等离子体约束装置的等离子体处理装置,所述等离子体约束装置包括彼此相互间隔设置并形成狭长通道的多个绝缘元件,至少部分绝缘元件内部嵌置有至少一个导电元件,所述导电元件相互电连接并接地形成电场屏蔽。该发明有效地解决了因等离子体扩散而引起的等离子处理装置腔体污染和在处理区外的二次等离子体放电问题。 |
申请公布号 |
CN1948550A |
申请公布日期 |
2007.04.18 |
申请号 |
CN200510030576.3 |
申请日期 |
2005.10.14 |
申请人 |
中微半导体设备(上海)有限公司 |
发明人 |
倪图强 |
分类号 |
C23C16/513(2006.01) |
主分类号 |
C23C16/513(2006.01) |
代理机构 |
上海智信专利代理有限公司 |
代理人 |
王洁 |
主权项 |
1、一种配置有等离子体约束装置的等离子体处理装置,所述等离子体约束装置设置在靠近处理区的周围,其特征在于,所述等离子体约束装置包括:彼此相互间隔设置并形成狭长通道的多个绝缘元件,至少部分绝缘元件内部嵌置有至少一个导电元件,所述导电元件相互电连接并接地形成电场屏蔽。 |
地址 |
201201上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区(南区)中央大道188号 |