| 发明名称 | 放射线敏感性树脂组合物、间隔物及其形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种放射线敏感性树脂组合物、由其形成的间隔物及其形成方法，其中所述放射线敏感性树脂组合物具有高感度、高解像度，且可容易形成图案形状、压缩强度、摩擦耐性、与透明基板的贴合性等各性能均优异的图案状薄膜，烧结时可抑制升华物的发生。其特征在于：含有(A)聚合物，该聚合物具有羧基和环氧基、且通过凝胶渗透色谱测定的、经聚苯乙烯换算的重均分子量(Mw)和经聚苯乙烯换算的数均分子量(Mn)的比(Mw/Mn)为1.7以下，(B)聚合性不饱和化合物和(C)放射线敏感性聚合引发剂。 | ||
| 申请公布号 | CN1950751A | 申请公布日期 | 2007.04.18 |
| 申请号 | CN200580013943.7 | 申请日期 | 2005.02.18 |
| 申请人 | JSR株式会社 | 发明人 | 梶田彻;一户大吾;志保浩司 |
| 分类号 | G03F7/032(2006.01);G02F1/1339(2006.01) | 主分类号 | G03F7/032(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 邹雪梅 |
| 主权项 | 1.一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于：含有(A)共聚物，该共聚物具有羧基和环氧基、且通过凝胶渗透色谱测定的、经聚苯乙烯换算的重均分子量(Mw)和经聚苯乙烯换算的数均分子量(Mn)的比(Mw/Mn)为1.7以下，(B)聚合性不饱和化合物和(C)放射线敏感性聚合引发剂。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||