微影方法

摘要

本发明系揭示一种在一浸没微影装置之覆盖效能的校准中，从多个曝光得到二组覆盖资料，该等曝光系使用正常及逆向弯曲而执行。能接着使用该二资料组以去除因晶圆冷却而导致之效应。