发明名称 半导体装置及其制造方法
摘要 本发明的课题是在于提供一种可低减自我加热效应(self-heating effect),基板飘移效应亦可解消之半导体装置及其制造力法。解决手段系其有SDON电晶体100,该SDON电晶体100包含:隔着闸极氧化膜21来形成于Si基板1上的Si层10之闸极电极23;及夹着闸极电极23来形成于Si层10之源极层27a及汲极层27b,在源极层27a与Si基板1之间、及汲极层27b与Si基板1之间分别存在空洞部15,且在闸极电极23下的Si层10与Si基板1之间不存在空洞部。由于闸极电极23下的Si层10与Si基板1连接,因此与SON电晶体相较之下,可低减自我加热效应。又,由于本体电位是被固定于Si基板1,因此可解消基板飘移效应。
申请公布号 TW200715563 申请公布日期 2007.04.16
申请号 TW095125491 申请日期 2006.07.12
申请人 精工爱普生股份有限公司 发明人 原寿树
分类号 H01L29/786(2006.01) 主分类号 H01L29/786(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本