具有X灯加热器之真空反应室VACUUM REACTION CHAMBER WITH X-LAMP HEATER

摘要

本发明提供电子束处理基材之方法与设备。电子束设备包含真空室、至少一与真空室连通之热电偶组件、与真空室连通之加热装置、以及其组合物。在一实施例中，真空室包含电子源，其中电子源包含连结至高压源之阴极、连结至低压源之阳极、以及基材支撑。另一实施例中，真空室包含设置介于阴极与基材支撑间之栅极(grid)。在一实施例中，加热装置包含第一平行光束阵列(parallel light array)与第二平行光束阵列系定位于可与第一平行光束阵列交叉之位置。在一实施例中，热电偶组件包含由氮化铝所制之温度感测器。