发明名称 晶圆切割方法
摘要 一种晶圆切割方法。在此晶圆切割方法中,提供表面上具有复数个切割线之晶圆,此些切割线系穿越晶圆表面上之边缘排除区(Edge Exclusion Area)并延伸至晶圆的周缘,而呈连续方格状。接着,形成保护层以覆盖晶圆表面。然后,进行光学微影步骤,以去除部分之保护层而形成复数个开孔且暴露出全部之切割线。接着,沿着切割线进行切割步骤。
申请公布号 TW200715473 申请公布日期 2007.04.16
申请号 TW094135567 申请日期 2005.10.12
申请人 日月光半导体制造股份有限公司 发明人 黄泰源;罗健文
分类号 H01L21/78(2006.01) 主分类号 H01L21/78(2006.01)
代理机构 代理人 蔡坤财
主权项
地址 高雄市楠梓加工出口区经三路26号