发明名称 基板处理装置
摘要 一种基板处理装置,包括:紫外线照射部,其对基板(B)照射紫外线;清洗机构,其与紫外线照射部邻接配置,并将用于对基板(B)实施液处理的复数液处理工具相互邻接配置;基板输送机构,其包括使基板从紫外线照射部到清洗机构的刷洗处理部、双流体供给部、冲洗部移动的移动路径;气幕形成喷嘴,其形成将紫外线照射部与清洗机构之间的含有移动路径的空间分隔成紫外线照射部侧和清洗机构侧的气幕;液幕形成喷嘴,其形成将相互邻接的刷洗处理部、双流体供给部、冲洗部的各部分之间的至少一个的含有上述移动路径的空间分隔成基板移动方向(A)的上游侧和下游侧的液幕。在降低成本的同时,还提高封闭效果。
申请公布号 TW200715389 申请公布日期 2007.04.16
申请号 TW095127955 申请日期 2006.07.31
申请人 大网目版制造股份有限公司 发明人 山本悟史;松本隆雄
分类号 H01L21/304(2006.01);B08B3/04(2006.01) 主分类号 H01L21/304(2006.01)
代理机构 代理人 洪澄文
主权项
地址 日本