被蚀刻材之制造方法

摘要

本发明提供可更合适防止蚀刻区域以未蚀刻区域残留之事态且可更减少蚀刻/未蚀刻区域之偏移之被蚀刻材之制造方法。使用蚀刻用遮罩M1，藉由开口状区域10施行蚀刻而所制造基板100之图案(被蚀刻材之制造方法)系利用第一蚀刻步骤及在前述第一蚀刻步骤后所行之第二蚀刻步骤来进行。第二蚀刻步骤系包含第一蚀刻步骤所产生之未蚀刻区域在内之蚀刻步骤。按照第一蚀刻步骤及第二蚀刻步骤，使与利用假想性蚀刻用遮罩M1’施行蚀刻之状态相同之未蚀刻区域形成于其表面上。