发明名称 |
改良之无铬相位微影遮罩及其产生方法及程式产品 |
摘要 |
本发明揭示一种产生一用于印记包括复数个特征之一图案之遮罩之方法。该方法包括以下步骤:获取表示该复数个特征之资料;及藉由蚀刻一基板来形成该复数个特征之至少一者以形成一台面并在该台面之整个上表面上沈积一铬层,其中该台面具有一预定高度。 |
申请公布号 |
TW200715045 |
申请公布日期 |
2007.04.16 |
申请号 |
TW095129719 |
申请日期 |
2006.08.14 |
申请人 |
ASML遮盖器具公司 |
发明人 |
陈江枫;敦福 斯帝芬 徐;道格拉斯 凡 丹 布洛凯;朴俊求;汤玛士 莱迪 |
分类号 |
G03F1/08(2006.01);G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F1/08(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
荷兰 |