发明名称 在应变矽层中具有改良结晶性之应变绝缘矽结构
摘要 本发明大体而言系关于一种应变绝缘矽(SSOI)结构及用于制造该结构之一方法。该方法包括一SSOI结构之一高温热退火以改良该应变矽层之结晶性,同时维持其中呈现之应变。
申请公布号 TW200715468 申请公布日期 2007.04.16
申请号 TW095128427 申请日期 2006.08.03
申请人 MEMC电子材料公司 发明人 麦可R 西卡特;卢 非
分类号 H01L21/76(2006.01);H01L21/20(2006.01);H01L21/02(2006.01) 主分类号 H01L21/76(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国