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发明名称
在应变矽层中具有改良结晶性之应变绝缘矽结构
摘要
本发明大体而言系关于一种应变绝缘矽(SSOI)结构及用于制造该结构之一方法。该方法包括一SSOI结构之一高温热退火以改良该应变矽层之结晶性,同时维持其中呈现之应变。
申请公布号
TW200715468
申请公布日期
2007.04.16
申请号
TW095128427
申请日期
2006.08.03
申请人
MEMC电子材料公司
发明人
麦可R 西卡特;卢 非
分类号
H01L21/76(2006.01);H01L21/20(2006.01);H01L21/02(2006.01)
主分类号
H01L21/76(2006.01)
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
美国
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