发明名称 磁控溅镀用之磁铁构造体及阴极体电极单元、以及磁控溅镀装置
摘要 提供一种可减轻磁铁设计上之劳力以在靶材表面均衡地形成隧道状电浆封闭用漏磁场之磁铁构造体等,该电浆封闭用漏磁场系根据复数个磁铁间之磁力相互作用所产生之4方向磁场。磁铁构造体(110)具备:内外部磁铁(10、13),以磁矩方向不同的方式配置于靶材(20)之背面侧,能形成到达靶材表面(20A)之第1磁力线;中间磁铁(11、12),以磁矩方向不同的方式配置于内外部磁铁(10、13)间之靶材(20)背面侧,能形成第2磁力线以抵消第1磁力线所形成之磁通密度之宽方向成分;以及磁性构件(24),配置于靶材(20)之背面侧,能引导第2磁力线使来自中间磁铁(11、12)一端面之第2磁力线进入中间磁铁(11、12)另一端面;磁性构件(24)系在其与内部磁铁(10)或外部磁铁(13)之间,形成到达靶材(20)之厚方向中途为止之磁力线。
申请公布号 TW200714731 申请公布日期 2007.04.16
申请号 TW095131276 申请日期 2006.08.25
申请人 新明和工业股份有限公司 发明人 近藤隆彦;堀崇展;岩崎安邦;米山信夫
分类号 C23C14/35(2006.01);C23C14/34(2006.01);H01F7/00(2006.01) 主分类号 C23C14/35(2006.01)
代理机构 代理人 桂齐恒;阎启泰
主权项
地址 日本