用于发光二极体之矽基台上之矽偏光器

摘要

本发明系关于一种用于制造包含矽且与发光装置组合使用之反射光学障壁的方法，其中该方法包含各向异性湿式蚀刻该矽材料，其方式为使得沿矽材料之结晶(111)平面之蚀刻速率较之沿(110)及(100)平面之蚀刻速率慢。本发明进一步包含一种与发光装置组合使用之反射光学障壁及一种含有至少一包含反射光学障壁之灯的系统。