含有乙烯基树脂衍生物之微影术用涂敷型底层膜形成组成物

摘要

用于防止随着光阻图案的微细化而使得光阻图案在显像后倒塌，适用于薄膜光阻的多层膜制程，具有比光阻或半导体基板小的乾蚀刻速度，在将基板加工时对于所加工的基板具有充分耐蚀刻性者。涂敷型底层膜形成组成物，其用于含聚合物的多层膜之微影术制程，该聚合物包含乙烯基系的单位构造、及含有芳香族性羟基或含羟基的酯之丙烯酸系单位构造。涂敷型底层膜形成组成物更含有含脂肪族环状化合物的酯或含芳香族化合物的酯之丙烯酸系单位构造。