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发明名称
半导体光电化学装置之制造方法及半导体光电化学装置
摘要
一种半导体光电化学装置之制造方法,系将由钛或钛合金所构成之基材,在700~1000℃之大气中、以5℃/秒以上的升温速度加以烧成而在表面形成氧化钛层,使金属钛混杂于氧化钛层中。
申请公布号
TW200714359
申请公布日期
2007.04.16
申请号
TW095122881
申请日期
2006.06.26
申请人
中川善典
发明人
中川善典;和田精久
分类号
B01J35/00(2006.01);H01L21/31(2006.01)
主分类号
B01J35/00(2006.01)
代理机构
代理人
桂齐恒;阎启泰
主权项
地址
日本
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