发明名称 半导体光电化学装置之制造方法及半导体光电化学装置
摘要 一种半导体光电化学装置之制造方法,系将由钛或钛合金所构成之基材,在700~1000℃之大气中、以5℃/秒以上的升温速度加以烧成而在表面形成氧化钛层,使金属钛混杂于氧化钛层中。
申请公布号 TW200714359 申请公布日期 2007.04.16
申请号 TW095122881 申请日期 2006.06.26
申请人 中川善典 发明人 中川善典;和田精久
分类号 B01J35/00(2006.01);H01L21/31(2006.01) 主分类号 B01J35/00(2006.01)
代理机构 代理人 桂齐恒;阎启泰
主权项
地址 日本