发明名称 III-NITRIDE SEMICONDUCTOR FABRICATION
摘要 <p>A process for fabricating a III-nitride power semiconductor device which includes forming a gate structure while providing a protective body over areas that are to receive power electrodes.</p>
申请公布号 WO2007041595(A2) 申请公布日期 2007.04.12
申请号 WO2006US38678 申请日期 2006.10.03
申请人 INTERNATIONAL RECTIFIER CORPORATION;HE, ZHI;BEACH, ROBERT 发明人 HE, ZHI;BEACH, ROBERT
分类号 H01L21/28;H01L21/3205 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人
主权项
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