| 发明名称 |
Beschichtungszusammensetzung für die Filmherstellung, Verfahren zur Filmherstellung und Filme auf Silika-Basis |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE60215248(T2) |
申请公布日期 |
2007.04.12 |
| 申请号 |
DE20026015248T |
申请日期 |
2002.03.25 |
| 申请人 |
JSR CORP. |
发明人 |
HAYASHI, EIJI;NISHIKAWA, MICHINORI;SHIOTA, ATSUSHI;YAMADA, KINJI |
| 分类号 |
C09D183/02;C09D183/04;C09D1/00;C09D133/00;C09D171/00;C09D183/00;C09D183/14;H01L21/312;H01L21/316 |
主分类号 |
C09D183/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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