发明名称 图案形成构造、图案形成方法、半导体装置及电气光学装置、电子机器
摘要 本发明之目的在于提供在图案形成时,使微细图案与其他图案之各其高度相同,藉以在包含图案之区域之上面形成平坦区域之堤岸构造、图案形成方法、光电装置及电子机器。本发明之隔墙构造体之特征在于其系设有对应于由功能液所形成之图案之凹部35者,包含第1凹部55,其系对应于第1图案而设置者;第2凹部56,其系连接于第1图案,且对应于宽度窄于第1图案之第2图案而设置者;及凸部35,其系设置于第1凹部55之至少1个以上者。
申请公布号 TWI278904 申请公布日期 2007.04.11
申请号 TW094131890 申请日期 2005.09.15
申请人 精工爱普生股份有限公司 发明人 平井利充;牛山敏宽
分类号 H01L21/00(2006.01) 主分类号 H01L21/00(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 1.一种隔墙构造体,其特征在于其系设有对应于由 机能液所形成之图案之凹部者,包含: 第1凹部,其系对应于第1图案而设置者; 第2凹部,其系连接于前述第1图案,且对应于宽度窄 于前述第1图案之第2图案而设置者;及 凸部,其系设置于前述第1凹部之至少1个以上者。 2.如请求项1之隔墙构造体,其中前述凸部系设于含 前述第1凹部与前述第2凹部之连接部之前述第1凹 部之底面区域者。 3.如请求项1或2之隔墙构造体,其中 设置有多数前述凸部; 邻接设置之前述凸部间之间隙部系设置成小于前 述第2凹部之宽度者。 4.如请求项1之隔墙构造体,其中前述凸部之高度系 设置成低于前述隔墙构造体上面者。 5.如请求项1之隔墙构造体,其中前述凸部系沿着前 述第2图案之长度方向设置者。 6.一种隔墙构造体之制造方法,其特征在于其系在 基板上形成具有对应于多数图案之凹部之隔墙构 造体者,包含 在前述基板上涂敷隔墙材料之步骤; 形成具有对应于第1图案之第1凹部,并具有连接于 前述第1图案,且对应于窄于前述第1图案之第2图案 之第2凹部之隔墙之步骤;及 在前述隔墙形成步骤中,在前述第1凹部设置至少1 个以上之凸部者。 7.一种半导体装置,其特征在于包含如前述请求项1 至5中任一项之隔墙构造体、及配置于前述隔墙构 造体之前述第1凹部与前述第2凹部内部之图案者 。 8.如请求项7之半导体装置,其中前述第1图案系闸 极配线,前述第2图案系闸极电极者。 9.如请求项7之半导体装置,其中前述第1图案系源 极配线,前述第2图案系源极电极者。 10.一种光电装置,其特征在于包含如前述请求项9 之半导体装置者。 11.一种电子机器,其特征在于包含如请求项10之光 电装置者。 图式简单说明: 图1系表示本发明之液滴喷出装置之概略构成之立 体图。 图2系利用压电方式之液状体之喷出原理之说明图 。 图3(a)系表示堤岸构造之模式的平面图,(b)系(a)所 示之堤岸构造之剖面图。 图4(a)~(d)系表示配线图案之形成步骤之剖面图。 图5(a)、(b)系表示配线图案之形成方法之剖面图。 图6系表示作为显示区域之1画素之模式的平面图 。 图7(a)~(e)系表示1画素之形成步骤之剖面图。 图8(a)系表示堤岸构造之模式的平面图,(b)系(a)所 示之堤岸构造之剖面图。 图9(a)系表示堤岸构造之模式的平面图,(b)系(a)所 示之堤岸构造之剖面图。 图10(a)系表示堤岸构造之模式的平面图,(b)系(a)所 示之堤岸构造之剖面图。 图11系液晶显示装置由相向电极侧所视之平面图 。 图12系沿着图9之H-H'线之液晶显示装置之剖面图。 图13系液晶显示装置之等效电路图。 图14系有机EL装置之局部放大剖面图。 图15系表示本发明之电子机器之具体例之图。 图16系非接触型卡片媒体之分解立体图。
地址 日本
您可能感兴趣的专利