发明名称 电流量测装置
摘要 本发明系有关一种电流量测装置,该装置系于一晶片底板,以沉积金属之方式于晶片底板上形成二电阻层,该二电阻层存在一微小间隙,藉由待测电流流通第一电阻层时产生热量,侦测第二电阻层感应由第一电阻层透过间隙传入的热量引起温度变化所产生的电阻变化量,并换算出待测电流值;本发明系应用于量测微小电流,且具有小体积、重量轻等特点,因此非常适用于量测任何微小载具之输出电流。
申请公布号 TWI278634 申请公布日期 2007.04.11
申请号 TW094139449 申请日期 2005.11.10
申请人 林秋丰;李佳言 高雄县鸟松乡明湖路81之12号5楼 发明人 林秋丰;李佳言
分类号 G01R19/15(2006.01) 主分类号 G01R19/15(2006.01)
代理机构 代理人 石继志 高雄市左营区明诚二路332号7楼之3
主权项 1.一种电流量测装置,尤指适用于任何微小载具当 中之传输电流之量测,包括有: 至少一第一电阻层,系供待测电流流通其中并产生 热量; 一微小间隙,系介于第一电阻层于第二电阻层间; 至少一第二电阻层,系感应由第一电阻层透过间隙 传入的热量引起温度变化所产生的电阻变化量,并 藉温度与电阻値变化量而换算出待测电流値。 2.如申请专利范围第1项所述之电流量测装置,其中 该第一电阻层包含一电流输入端及一电流输出端 。 3.如申请专利范围第1项所述之电流量测装置,其中 该微小间隙系30M、50M、200M,或依量测电流 范围变换适当宽度。 4.如申请专利范围第1项所述之电流量测装置,其中 该第一电阻层系微型加热器。 5.如申请专利范围第1项所述之电流量测装置,其中 该第二电阻层系微型温度感测器。 6.如申请专利范围第1项所述之电流量测装置,其中 该第一电阻层及第二电阻层系于一晶片底板上以 沉积金属之方式所形成。 7.如申请专利范围第6项所述之电流量测装置,其中 该晶片底板系玻璃、石英或高分子材料,例如:压 克力(PMMA)、聚碳酸酯(PC)或聚二甲矽氧烷(PDMS)。 8.如申请专利范围第6项所述之电流量测装置,其中 该沉积金属方法系蒸镀法或溅镀法。 9.如申请专利范围第6项所述之电流量测装置,其中 该金属系Pt/Cr或Pt/Ti,而以Pt/Cr为较佳。 图式简单说明: 图一系为本发明之结构示意图。 图二系为本发明之电流量测装置在不同间隙宽度 下,温度对电流关系图。 图三系为本发明之电流量测装置在不同间隙宽度 下,电阻对电流关系图。
地址 屏东县内埔乡学府路1号