发明名称 辐射敏感性树脂组成物
摘要 本发明之辐射敏感性树脂组成物,其特征为含有(A)对于由具有羧基之自由基聚合性化合物(a)所产生之构成单位含有1~40重量%,由具有苯酚性羟基之自由基聚合性化合物(b-1)或由具有在共聚物合成后,可转变成苯酚性羟基之官能基之自由基聚合性化合物(b-2)所产生之苯酚性羟基之构成单位含有1~50重量%,剩余部分为对于前述化合物(a)、(b-1)、(b-2)及下述化合物(d)以下之其他的聚合性化合物(c)所产生之构成单位之共聚物100重量份时,使具有环氧基之自由基聚合性化合物(d)0.1~20重量份产生反应所得之含不饱和基之硷可溶性树脂;(B)具有至少一个之乙烯性不饱和双键之化合物;及(C)为辐射线自由基聚合引发剂;且可形成电镀之高度以上之辐射敏感性树脂组成物涂膜,具有高解像性之辐射敏感性树脂组成物。
申请公布号 TWI278720 申请公布日期 2007.04.11
申请号 TW091137874 申请日期 2002.12.30
申请人 JSR股份有限公司 发明人 岩永伸一郎;岩本聪;木村彻;西村洋子;西川耕二
分类号 G03F7/027(2006.01) 主分类号 G03F7/027(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种辐射敏感性树脂组成物,其特征为含有 (A)对于由具有羧基之自由基聚合性化合物(a)所产 生之构成单位1~40重量%,由具有苯酚性羟基之自由 基聚合性化合物(b-1)或由具有在共聚物合成后,可 转变成苯酚性羟基之官能基之自由基聚合性化合 物(b-2)所产生之苯酚性羟基之构成单位含有1~50重 量%,剩余部分为对于前述化合物(a)、(b-1)、(b-2)及 下述化合物(d)以下之其他的聚合性化合物(c)所产 生之构成单位之共聚物100重量份时,使具有环氧基 之自由基聚合性化合物(d)0.1~20重量份产生反应所 得之含不饱和基之硷可溶性树脂; (B)具有至少一个之乙烯性不饱和双键之化合物;及 (C)辐射线自由基聚合引发剂。 2.如申请专利范围第1项之辐射敏感性树脂组成物, 其中该自由基聚合性化合物(b-1)为-甲基-对羟基 苯乙烯。 3.一种金属图案之制造方法,其特征系使用如申请 专利范围第1或2项之辐射敏感性树脂组成物。 4.一种半导体装置之制造方法,其特征系使用如申 请专利范围第3项之方法所形成之金属图案。
地址 日本