发明名称 彩色滤光板中图案化平坦层的制作方法
摘要 一种彩色滤光板中平坦层的制作方法。首先,在基板上形成彩色滤光板的画素层,接着在画素层上以及画素层之间的间隙中形成一层平坦层。接着再进一步图案化该层平坦层,以形成多个平坦层分别位于昼素层之上。最后再进行高温烘烤,用以完成平坦层的制作。一种利用上述平坦层制作方法所完成的彩色滤光板及其制作方法亦揭露于说明书中。
申请公布号 TWI278670 申请公布日期 2007.04.11
申请号 TW095121641 申请日期 2006.06.16
申请人 展茂光电股份有限公司 发明人 陈文仁;陈世豪;伍浚铭;苏声有
分类号 G02B5/23(2006.01) 主分类号 G02B5/23(2006.01)
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼
主权项 1.一种彩色滤光板之平坦层的制作方法,该平坦层 的制作方法包含: 形成多个画素层于一基板上,相邻之该些画素层之 间具有一间隙; 形成一平坦层于该些画素层上以及该些间隙之中; 图案化该平坦层以形成复数个平坦层分别位于该 些画素层之上;以及 烘烤该些平坦层,以去除该些平坦层中的溶剂与水 分。 2.如申请专利范围第1项所述之一种彩色滤光板之 平坦层的制作方法,其中该平坦层的材料为正型透 明光阻材料或负型透明光阻材料。 3.如申请专利范围第2项所述之一种彩色滤光板之 平坦层的制作方法,其中图案化该平坦层的方式为 微影制程。 4.如申请专利范围第1项所述之一种彩色滤光板之 平坦层的制作方法,其中该平坦层的材料为非光阻 材料。 5.如申请专利范围第4项所述之一种彩色滤光板之 平坦层的制作方法,其中图案化该平坦层的方式为 微影蚀刻制程。 6.如申请专利范围第1项所述之一种彩色滤光板之 平坦层的制作方法,其中烘烤该些平坦层的温度范 围为200℃到250℃。 7.一种彩色滤光板的制作方法,该彩色滤光板的制 作方法包含: 形成多个画素层于一基板上,相邻之该些画素层之 间具有一间隙; 形成一平坦层于该些画素层上以及该些间隙之中; 图案化该平坦层以形成复数个平坦层分别位于该 些画素层之上; 烘烤该些平坦层,用以去除该些平坦层中的溶剂与 水分; 形成至少一电极于每一该些平坦层上;以及 沿着该些间隙进行切割,完成彩色滤光板的制作。 8.如申请专利范围第7项所述之一种彩色滤光板的 制作方法,其中该平坦层的材料为正型透明光阻材 料或负型透明光阻材料。 9.如申请专利范围第8项所述之一种彩色滤光板的 制作方法,其中图案化该平坦层的方式为微影制程 。 10.如申请专利范围第7项所述之一种彩色滤光板的 制作方法,其中该平坦层的材料为非光阻材料。 11.如申请专利范围第10项所述之一种彩色滤光板 的制作方法,其中图案化该平坦层的方式为微影蚀 刻制程。 12.一种根据申请专利范围第7项至第11项所述之任 一种方法所制造之彩色滤光板。 图式简单说明: 第1A~1B图系绘示了目前习知彩色滤光板之平坦层 的制造方法的剖面结构示意图。 第1C图为目前习知彩色滤光板的画素偏移的剖面 示意图。 第2A~2C图系绘示了依照本发明较佳实施例的一种 彩色滤光板之平坦层的制作方法的剖面结构示意 图。
地址 桃园县平镇市中兴路458号