发明名称 光阻组成物之制造方法、过滤装置及涂布装置
摘要 本发明系提供显像后能抑制光阻图型产生瑕疵之光阻组成物的制造技术。又,为了提供具有优良异物经时特性(保存安定性)之光阻组成物的制造技术,更佳为提供处理前后不易产生灵敏度及光阻图型尺寸变化之光阻组成物的制造技术,本发明之光阻组成物的制造方法为,特征系具有使含有树脂成分(A),利用曝光产酸之酸发生剂成分(B)及有机溶剂(C)之光阻组成物,通过具备pH7.0之蒸馏水中具有超过-20mV且15mV以下δ(Zeta)电位的第1种膜之第1滤器2a的步骤。
申请公布号 TWI278339 申请公布日期 2007.04.11
申请号 TW092136010 申请日期 2003.12.18
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 羽田英夫;岩井武;崎真明;室井雅昭;厚地浩太;富田浩明;尾崎弘和
分类号 B01D35/02(2006.01);G03F7/004(2006.01);G03F7/039(2006.01) 主分类号 B01D35/02(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种光阻组成物之制造方法,其特征为,具有使含 有树脂成分(A)、利用曝光产酸之酸发生剂成分(B) 及有机溶剂(C)之光阻组成物,通过具备pH7.0蒸馏水 中具有超过-20mV且15mV以下之(Zeta)电位、临界表 面张力为70dyne/cm以上、孔径为0.02m以上、0.1m 以下的第1种膜之第1滤器的步骤。 2.如申请专利范围第1项之光阻组成物的制造方法, 其中第1滤器为,具备于pH7.0之蒸馏水中具有负的 (Zeta)电位之第1种膜的过滤器。 3.如申请专利范围第1项之光阻组成物的制造方法, 其中第1种膜为尼龙制膜。 4.如申请专利范围第1项之光阻组成物的制造方法, 其中,通过第1滤器之步骤前后的任何一方或双方, 尚具有使该光阻组成物通过具备聚乙烯或聚丙烯 制第2种膜之第2滤器的步骤。 5.如申请专利范围第4项之光阻组成物的制造方法, 其中第2种膜中的孔径为0.02m以上且0.1m以下。 6.如申请专利范围第1项之光阻组成物的制造方法, 其中第1种膜之孔径为0.02m以上且0.04m以下。 7.如申请专利范围第6项之光阻组成物的制造方法, 其中第1种膜之孔径为0.04m。 8.如申请专利范围第1项之光阻组成物的制造方法, 其中(A)成分为,具有(甲基)丙烯酸酯所衍生之构成 单位的树脂。 9.如申请专利范围第8项之光阻组成物的制造方法, 其中(A)成分为,具有含酸解离性溶解抑制基之(甲 基)丙烯酸酯所衍生的构成单位(a1),及含内酯环之( 甲基)丙烯酸酯所衍生的构成单位(a2)。 10.如申请专利范围第9项之光阻组成物的制造方法 ,其中(A)成分为,具有含酸解离性溶解抑制基之(甲 基)丙烯酸酯所衍生的构成单位(a1),及含内酯环之( 甲基)丙烯酸酯所衍生的构成单位(a2),及含羟基、 氰基或,含羟基与氰基之(甲基)丙烯酸酯所衍生的 构成单位(a3)。 11.如申请专利范围第10项之光阻组成物的制造方 法,其中(A)成分为,具有含酸解离性溶解抑制基之( 甲基)丙烯酸酯所衍生的构成单位(a1),及含内酯环 之(甲基)丙烯酸酯所衍生的构成单位(a2),及含羟基 、氰基或,含羟基与氰基之(甲基)丙烯酸酯所衍生 的构成单位(a3),及非构成单位(a1)至(a3)之由含脂肪 族多环式基(甲基)丙烯酸酯所衍生的构成单位(a4) 。 12.一种过滤装置,其特征为,具有贮存含有树脂成 分(A)、利用曝光产酸之酸发生剂成分(B)及有机溶 剂(C)之光阻组成物用贮存部,及使该光阻组成物通 过用之第1过滤部的过滤装置中, 第1过滤部具有,具备pH7.0蒸馏水中具有超过-20mV且 15mV以下之(Zeta)电位、临界表面张力为70dyne/cm以 上、孔径为0.02m以上、0.1m以下的第1种膜之第 1滤器。 13.如申请专利范围第12项之过滤装置,其中第1种膜 为pH7.0蒸馏水中具有负的(Zeta)电位之膜。 14.如申请专利范围第12项之过滤装置,其中第1种膜 为尼龙制膜。 15.如申请专利范围第12项之过滤装置,其中第1过滤 部前后之任何一方或双方具有,使光阻组成物通过 具备聚乙烯或聚丙烯制第2种膜之第2滤器用的第2 过滤部。 16.如申请专利范围第15项之过滤装置,其中第2种膜 中的孔径为0.02m以上且0.1m以下。 17.如申请专利范围第12项之过滤装置,其中第1种膜 之孔径为0.02m以上且0.04m以下。 18.如申请专利范围第17项之过滤装置,其中第1种膜 之孔径为0.04m。 19.如申请专利范围第12项之过滤装置,其中(A)成分 为,使具有(甲基)丙烯酸酯所衍生之构成单位的树 脂之光阻组成物通过所使用者。 20.如申请专利范围第19项之过滤装置,其中(A)成分 为,使具有含酸解离性溶解抑制基之(甲基)丙烯酸 酯所衍生的构成单位(a1),及含内酯环之(甲基)丙烯 酸酯所衍生的构成单位(a2)之树脂的光阻组成物通 过所使用者。 21.如申请专利范围第20项之过滤装置,其中(A)成分 为,使具有含酸解离性溶解抑制基之(甲基)丙烯酸 酯所衍生的构成单位(a1),及含内酯环之(甲基)丙烯 酸酯所衍生的构成单位(a2),及含羟基、氰基或,含 羟基与氰基之(甲基)丙烯酸酯所衍生的构成单位(a 3)之树脂的光阻组成物通过所使用者。 22.如申请专利范围第21项之过滤装置,其中(A)成分 为,使具有含酸解离性溶解抑制基之(甲基)丙烯酸 酯所衍生的构成单位(a1),及含内酯环之(甲基)丙烯 酸酯所衍生的构成单位(a2),及含羟基、氰基或,含 羟基与氰基之(甲基)丙烯酸酯所衍生的构成单位(a 3),及非构成单位(a1)至(a3)之含脂肪族环式基(甲基) 丙烯酸酯所衍生的构成单位(a4)之树脂的光阻组成 物通过所使用者。 23.一种光阻组成物之涂布装置,其为搭载如申请专 利范围第12项之过滤装置。 图式简单说明: 图1为,本发明过滤装置之一例的概略构造图。 图2为,本发明搭载过滤装置之涂布装置的一例之 概略构造图。 图3为,Zisman Plot之曲线图。
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