发明名称 |
液晶显示结构及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供了一种液晶显示结构及其制造方法,该液晶显示结构及其制造方法通过增加一外加的导电层(即一第三导电层),使该导电层分别于基板的控制区域及电容区域上,电性连接第二导电层、控制装置、及储存电容装置;于工艺中并利用半色调掩膜,同时定义第三导电层与透明电极的图案,由此控制曝光工艺,有效降低制造成本,并间接增加有效电场。 |
申请公布号 |
CN1945389A |
申请公布日期 |
2007.04.11 |
申请号 |
CN200610143118.5 |
申请日期 |
2006.11.01 |
申请人 |
友达光电股份有限公司 |
发明人 |
郑逸圣 |
分类号 |
G02F1/133(2006.01);G02F1/136(2006.01);G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G02F1/133(2006.01) |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 |
代理人 |
陶海萍 |
主权项 |
1.一种制造一液晶显示结构的方法,其特征在于,所述结构包含一基板,所述基板具有多像素区域,所述像素区域具有一控制区域、一电容区域、及一显示区域,所述方法包含下列步骤:步骤a.分别形成一多晶硅层,于所述基板的控制区域及电容区域上;步骤b.形成一下介电层,覆盖于所述基板的控制区域及电容区域上,且对应于所述控制区域及电容区域,局部形成一第一导电层于所述下介电层上,于所述控制区域上形成一控制装置;步骤c.形成一上介电层,覆盖所述电容区域的所述第一导电层,并分别于所述控制区域及电容区域上形成一第二导电层,于所述电容区域中,与所述第一导电层间,形成一储存电容装置;步骤d.形成一平坦介电层及一透明电极于所述控制区域、电容区域、及显示区域上,覆盖所述控制装置及储存电容装置,并使所述控制区域及电容区域至少其中之一的第二导电层,形成至少一曝露区域;步骤e.形成一第三导电层,电性连接所述第二导电层的至少一曝露区域、所述控制装置、及所述储存电容装置;以及步骤f.同时定义所述第三导电层与所述透明电极的所需图案。 |
地址 |
台湾省新竹市 |