| 发明名称 | 井筒中的崩落的禁止效应 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种用于处理地下岩层的方法。该方法包括将一个或多个爆炸物放入岩层中的选择用于爆炸的一个或多个井筒的部分中。所形成的井筒处于岩层中的一个或多个区域中。该方法还包括在一个或多个井筒中可控制地爆炸该爆炸物，从而环绕所选择的井筒的至少某些岩层具有增强的渗透率。该方法还包括在一个或多个井筒中提供一个或多个加热器。 | ||
| 申请公布号 | CN1946918A | 申请公布日期 | 2007.04.11 |
| 申请号 | CN200580012726.6 | 申请日期 | 2005.04.22 |
| 申请人 | 国际壳牌研究有限公司 | 发明人 | 白太绪;D·S·金;F·H·K·兰博;H·J·维内加 |
| 分类号 | E21B43/24(2006.01) | 主分类号 | E21B43/24(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 寇英杰 |
| 主权项 | 1.用于处理地下岩层的方法，包括：将一个或多个爆炸物放入岩层中一个或多个井筒的选择用于爆炸的部分中，该井筒形成在岩层中的一个或多个区域中；在一个或多个井筒中使该爆炸物进行可控制地爆炸，从而环绕所选择的井筒的至少某些岩层具有增强的渗透率；及在该一个或多个井筒中设置一个或多个加热器。 | ||
| 地址 | 荷兰海牙 | ||