发明名称 | 磁记录介质和磁存储装置 | ||
摘要 | 一种磁记录介质,包括衬底、记录磁层和设置在衬底和磁层之间的底层,记录磁层由CoCr合金构成并具有(1120)晶体织构,底层由AlV或AlRuV合金构成。 | ||
申请公布号 | CN1310215C | 申请公布日期 | 2007.04.11 |
申请号 | CN03822082.2 | 申请日期 | 2003.01.15 |
申请人 | 富士通株式会社 | 发明人 | 安东尼·阿简;E.·诺埃尔·阿巴拉 |
分类号 | G11B5/64(2006.01) | 主分类号 | G11B5/64(2006.01) |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 付建军 |
主权项 | 1.一种磁记录介质,包括:衬底;记录磁层,由CoCr合金构成并具有(1120)晶体织构;底层,其设置在衬底和磁层之间,由AlV或AlRuV合金构成。 | ||
地址 | 日本神奈川 |