发明名称 磁记录介质和磁存储装置
摘要 一种磁记录介质,包括衬底、记录磁层和设置在衬底和磁层之间的底层,记录磁层由CoCr合金构成并具有(1120)晶体织构,底层由AlV或AlRuV合金构成。
申请公布号 CN1310215C 申请公布日期 2007.04.11
申请号 CN03822082.2 申请日期 2003.01.15
申请人 富士通株式会社 发明人 安东尼·阿简;E.·诺埃尔·阿巴拉
分类号 G11B5/64(2006.01) 主分类号 G11B5/64(2006.01)
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 付建军
主权项 1.一种磁记录介质,包括:衬底;记录磁层,由CoCr合金构成并具有(1120)晶体织构;底层,其设置在衬底和磁层之间,由AlV或AlRuV合金构成。
地址 日本神奈川