发明名称 N型基体单晶硅太阳电池
摘要 本实用新型涉及一种N型基体单晶硅太阳电池采用N型硅单晶片为基体,制造太阳电池,其生产出的太阳电池效率和应用完全和用P型基体制成的太阳电池一样;本实用新型的太阳电池结构,从上面向下面各层依次是:上电极/氮化硅减反射膜/P<SUP>+</SUP>扩散层/N型单晶硅片/N<SUP>+</SUP>/背电极;其中:氮化硅减反射膜厚度约为0.75μm,P<SUP>+</SUP>扩散层的厚度约为0.2-0.25μm,薄层电阻约20Ω-cm,N<SUP>+</SUP>层厚度约为5-10μm,N型单晶硅片电阻率>0.5Ω-cm。
申请公布号 CN2888652Y 申请公布日期 2007.04.11
申请号 CN200520043749.0 申请日期 2005.07.25
申请人 胡宏勋;郑君 发明人 胡宏勋;郑君
分类号 H01L31/04(2006.01) 主分类号 H01L31/04(2006.01)
代理机构 上海东亚专利商标代理有限公司 代理人 罗习群
主权项 1.一种N型基体单晶硅太阳电池,其特征在于,N型基体单晶硅太阳电池的结构,从上面向下面各层依次是:上电极/氮化硅减反射膜/P+扩散层/N型单晶硅片/N+/背电极;其中:氮化硅减反射膜厚度为0.75um,P+扩散层的厚度为0.2-0.25um,薄层电阻20Ω-cm,N+层厚度为5-10um,N型单晶硅片电阻率>0.5Ω-cm。
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