发明名称 | 微型射流结构 | ||
摘要 | 本发明涉及一种微型射流结构(10)。该微型射流结构(10)包括基材(12),该基材(12)具有边缘和设置在邻接该边缘的至少部分基材(12)上的层叠薄膜(30,130,230,330)。层叠薄膜(30,130,230,330)包括绝缘层(37)和来源层(38),来源层(38)位于暴露出部分绝缘层(37)的位置。腔室层(50,150,250,350)设置在至少部分来源层(38)上。绝缘层(37)、来源层(38)以及腔室层(50,150,250,350)限定了微型射流腔室(70,170,370)。具有预定表面性能的层(54)被电镀到腔室层(50,150,250,350)、来源层(38)的另一部位的至少一部分、以及绝缘层(37)的暴露部分上。 | ||
申请公布号 | CN1946557A | 申请公布日期 | 2007.04.11 |
申请号 | CN200580013322.9 | 申请日期 | 2005.04.26 |
申请人 | 惠普开发有限公司 | 发明人 | M·沙亚拉;K·希基;W·奥雷利 |
分类号 | B41J2/16(2006.01) | 主分类号 | B41J2/16(2006.01) |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 曹若;黄力行 |
主权项 | 1.一种微型射流结构(10,10′),包括:具有边缘的基材(12);层叠薄膜(30,130,230,330),其设置在邻接边缘的至少部分基材(12)上,所述层叠薄膜(30,130,230,330)包括绝缘层(37)和来源层(38),来源层(38)位于暴露出部分绝缘层(37)的位置;腔室层(50,150,250,350),其设置在来源层(38)的至少一部分上,其中基材(12)、层叠薄膜(30,130,230,330)和腔室层(50,150,250,350)限定出微型射流腔室(70,170,370);以及具有预定表面性能的层(54),其被电镀到腔室层(50,150,250,350)上、来源层(38)的另一部位的至少一部分上以及绝缘层(37)的暴露部分上。 | ||
地址 | 美国德克萨斯州 |