发明名称 | 钕镱共掺高硅氧激光玻璃的制造方法 | ||
摘要 | 一种钕镱共掺高硅氧激光玻璃的制造方法,包括下列步骤:制备多孔玻璃;配制钕离子和镱离子混合溶液;将所述的多孔玻璃浸入所述的钕离子和镱离子混合溶液中30分钟以上;该多孔玻璃在空气中200~800℃下干燥;在高温炉中经过1100~1200℃的固相烧结,消除微孔成为密实透明的钕镱共掺高硅氧激光玻璃;本发明制备的钕镱共掺高硅氧玻璃具有优良物理性能,在808nm激光泵浦下获得950到1100nm的宽带发光,并可实现氙灯泵浦激光输出。 | ||
申请公布号 | CN1944297A | 申请公布日期 | 2007.04.11 |
申请号 | CN200610117455.7 | 申请日期 | 2006.10.24 |
申请人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明人 | 乔延波;陈丹平;邱建荣 |
分类号 | C03C3/06(2006.01) | 主分类号 | C03C3/06(2006.01) |
代理机构 | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人 | 张泽纯 |
主权项 | 1、一种钕镱共掺高硅氧激光玻璃的制造方法,其特征在于该方法包括下列步骤:①制备多孔玻璃,该多孔玻璃的组成如下:成分 wt%SiO2 ≥94.0B2O3 1.0~3.0Al2O3 1.0~3.0该多孔玻璃的孔径为1.0~10纳米,小孔占玻璃体积的25~40%;②配制钕离子和镱离子混合溶液;将硝酸钕、氯化钕或乙酸钕,和硝酸镱、氯化镱或乙酸镱按比例溶于水溶液、或酸溶液、或乙醇溶液中配成钕离子和镱离子的混合溶液,所配混合溶液中钕离子浓度为0.1~1mol/L,镱离子浓度为0.1~1mol/L,镱离子与钕离子在溶液中的摩尔含量之比在0.1~10范围内;③采用浸泡法,将所述的多孔玻璃浸入所述的钕离子和镱离子混合溶液中30min以上,将钕离子和镱离子引入多孔玻璃中;④将掺有钕、镱离子的多孔玻璃在空气中200~800℃下干燥;⑤将掺有钕、镱离子的多孔玻璃放入高温炉,在空气或氧气中经过1100~1200℃的固相烧结,消除微孔成为密实透明的钕镱共掺高硅氧激光玻璃。 | ||
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