发明名称 |
研磨垫及研磨装置 |
摘要 |
本发明提供一种研磨垫及研磨装置,其在谋求研磨垫的长寿命化和提高面内均匀性的同时,可以防止被研磨物贴附在研磨垫上。所述研磨垫包括:一面为研磨面(22)、另一面为支持面(23)的板状的垫主体(21);以及多个孔部(30),该孔部由多个长孔(31)组合而成,所述长孔(31)是从研磨面(22)至支持面(23)贯通该垫主体(21)、并沿研磨面(22)的面方向中的多个不同方向延伸设置而成的。 |
申请公布号 |
CN1943993A |
申请公布日期 |
2007.04.11 |
申请号 |
CN200610129056.2 |
申请日期 |
2006.09.05 |
申请人 |
株式会社东芝 |
发明人 |
中畑政臣 |
分类号 |
B24D17/00(2006.01);B24B29/02(2006.01);H01L21/304(2006.01) |
主分类号 |
B24D17/00(2006.01) |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 |
代理人 |
陈建全 |
主权项 |
1.一种研磨被研磨物的研磨垫,其特征在于,该研磨垫包括:一面为研磨面、另一面为支持面的板状的垫主体;以及多个孔部,该孔部由多个长孔组合而形成,所述长孔是从所述研磨面至所述支持面贯通所述垫主体、并沿所述研磨面的面方向中的多个不同方向延伸设置而成的。 |
地址 |
日本东京都 |