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发明名称 METHOD OF FORMING DUAL DAMASCENE PATTERN IN SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR20070039349(A) 申请公布日期 2007.04.11
申请号 KR20050094579 申请日期 2005.10.07
申请人 MAGNACHIP SEMICONDUCTOR, LTD. 发明人 KIM, HONG IK
分类号 H01L21/28 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人
主权项
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