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发明名称
Fabrication method of semiconductor device capacitor having dielectric barrier layer and semiconductor device capacitor fabricated thereby
摘要
申请公布号
KR100703965(B1)
申请公布日期
2007.04.05
申请号
KR20040118002
申请日期
2004.12.31
申请人
发明人
分类号
H01L27/108
主分类号
H01L27/108
代理机构
代理人
主权项
地址
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