| 发明名称 | 光记录介质的记录/再现方法、记录条件确定方法、记录方法、光盘装置、程序及其记录介质 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种记录和再现方法，用于在/从包括导槽和记录层的光记录介质上记录/再现数据。所述记录/再现方法包括步骤：通过将激光辐射时间和激光辐射强度的至少一个调制为两个或多个值来向光记录介质上辐射激光束；其中，将再现功率(Pr)和偏置功率(Pbi)的比率Pbi/Pr设置到不小于0.5的值；其中，通过总是提供具有功率级的激光束来记录数据，所述功率级包括被加到偏置功率(Pbi)的再现功率(Pr)。 | ||
| 申请公布号 | CN1942936A | 申请公布日期 | 2007.04.04 |
| 申请号 | CN200580011815.9 | 申请日期 | 2005.04.18 |
| 申请人 | 株式会社理光 | 发明人 | 笹登;林嘉隆;藤井俊茂 |
| 分类号 | G11B7/0045(2006.01);G11B7/125(2006.01) | 主分类号 | G11B7/0045(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 邵亚丽;吕晓章 |
| 主权项 | 1.一种记录和再现方法，用于在/从包括导槽和记录层的光记录介质上记录/再现数据，所述记录/再现方法包括步骤：通过将激光辐射时间和激光辐射强度的至少一个调制为两个或多个值来向光记录介质上辐射激光束；其中，将再现功率(Pr)和偏置功率(Pbi)的比率Pbi/Pr设置到不小于0.5的值；其中，通过总是提供具有功率级的激光束来记录数据，该功率级包括被加到偏置功率(Pbi)的再现功率(Pr)。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||