发明名称 等离子体处理装置
摘要 本发明提供通过使用高电介质材料可提高波导管耐热性的等离子体处理装置,该等离子体处理装置的特征为配备以下部件,即可真空抽气的处理容器(44),和在所述处理容器内设置的,载置被处理体(W)的载置台(46),和在所述处理容器顶板开口部设置的微波透过板(72),和经所述微波透过板用于把微波供给所述处理容器内的平面天线部件(76),和覆盖所述平面天线部件的上方地接地的护板盖板(80),和用于把来自微波发生源的微波供给所述平面天线部件的波导管(90),所述波导管由使用高电介质材料的高电介质波导管(94)形成,据此可以提高波导管的耐热性。
申请公布号 CN1309280C 申请公布日期 2007.04.04
申请号 CN03803212.0 申请日期 2003.01.27
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 河西繁
分类号 H05H1/46(2006.01);H01L21/3065(2006.01) 主分类号 H05H1/46(2006.01)
代理机构 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人 龙淳
主权项 1、一种等离子体处理装置,其特征为,配备以下部件:可真空抽气的处理容器;在所述处理容器内设置的、载置被处理体的载置台;在所述处理容器的顶板开口部上设置的微波透过板;经所述微波透过板,用于将微波供给所述处理容器内的平面天线部件;覆盖着所述平面天线部件的上方并接地的防护盖体;和用于将来自微波发生源的微波供给所述平面天线部件的波导管,所述波导管由使用了介电系数在100以上的高电介质材料的高电介质波导管构成。
地址 日本东京都