| 发明名称 | 曝光方法和装置 | ||
| 摘要 | 一种曝光方法，不用太多地降低效率即可在曝光过程中高精度地检测作为曝光对象的基板表面相对投影光学系像面的散焦量，以自动聚焦方式对焦。使用包含照明狭缝部(54a)-光学构件(63a)的第1斜入射方式的AF传感器和包含照明狭缝部(54b)-光学构件(63b)的第2斜入射方式的AF传感器，由这些AF传感器将狭缝像(F1f、F2f)照射到相同的检测点，分别进行聚焦位置的测量。将2个测量值的差分的1/2作为测量值的漂移，对这些AF传感器的测量值修正该漂移。之后，利用该第1或第2AF传感器按自动聚焦方式对焦。 | ||
| 申请公布号 | CN1309017C | 申请公布日期 | 2007.04.04 |
| 申请号 | CN99813401.5 | 申请日期 | 1999.11.12 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 西健尔 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | H01L21/027(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 陈伟 |
| 主权项 | 1.一种曝光方法，使用产生曝光光束的曝光光源和保持掩模与基板的曝光本体部，利用上述曝光光束将上述掩模图复制在上述基板上；其特征在于：将用于传送上述曝光光源的曝光光束的第1照明系独立于上述曝光本体部地支承，在上述曝光本体部固定用于将上述第1照明系的上述曝光光束引导至上述曝光本体部的第2照明系，将可动遮蔽器独立于上述曝光本体部及上述第2照明系进行支承，所述可动遮蔽器可以对基于上述曝光光束的上述掩模的照射范围进行变更。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||