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发明名称
Low-k hard mask
摘要
<p>Embodiments of the invention provide a device with a hard mask layer between first and second ILD layers. The hard mask layer may have a k value approximately equal to the first and/or second ILD layers.</p>
申请公布号
GB2430803(A)
申请公布日期
2007.04.04
申请号
GB20070000156
申请日期
2005.07.29
申请人
INTEL CORPORATION
发明人
SEAN KING;ANDREW OTT
分类号
H01L21/768;H01L21/4763;H01L23/532
主分类号
H01L21/768
代理机构
代理人
主权项
地址
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