| 发明名称 | 用于浸润式微影制程的涂布材料以及浸润式微影的方法 | ||
| 摘要 | 本发明是有关一种涂布于光阻层上用于浸润式微影制程的涂布材料以及浸润式微影的方法。该涂布材料包含聚合物和酸，聚合物实质性不溶于浸润式流体，酸用以中和来自光阻层的碱性抑制剂(quencher)。一种浸润式微影的方法，包含：形成一光阻层在一基板上，该光阻层包含一碱性抑制剂；形成一涂布材料层在该光阻层上，其中该涂布材料层包含：一酸，以及一聚合物。本发明能有效的改善和避免水纹缺陷。 | ||
| 申请公布号 | CN1940722A | 申请公布日期 | 2007.04.04 |
| 申请号 | CN200610152429.8 | 申请日期 | 2006.09.29 |
| 申请人 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 发明人 | 张庆裕 |
| 分类号 | G03F7/004(2006.01);G03F7/20(2006.01);G03F7/26(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/004(2006.01) |
| 代理机构 | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 寿宁;张华辉 |
| 主权项 | 1、一种涂布于一光阻层上用于浸润式微影制程的涂布材料，其特征在于：包含：一酸，能实质上中和来自该光阻层的一碱性抑制剂；以及一聚合物，实质上为该酸的一载体且实质性的不溶于该浸润式微影制程的一浸润式流体。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路8号 | ||