| 发明名称 | 水性抛光液和化学机械抛光方法 | ||
| 摘要 | 提供一种水性抛光液，其包括氧化剂，含有至少3个氮原子的五元单环化合物或其中杂环与所述化合物稠合的化合物，和具有咪唑骨架或异噻唑啉－3－酮骨架的化合物。将含有至少3个氮原子的五元单环化合物和/或其中杂环与所述化合物稠合的化合物以小于300mg/L的总浓度使用，并且将具有咪唑骨架或异噻唑啉－3－酮骨架的化合物以至少10mg/L但不大于500mg/L的浓度使用。还提供一种化学机械抛光方法，该方法包括在水性抛光液的存在下，通过使被抛光表面和抛光表面在相互接触的同时相对移动而抛光的步骤。 | ||
| 申请公布号 | CN1939995A | 申请公布日期 | 2007.04.04 |
| 申请号 | CN200610139615.8 | 申请日期 | 2006.09.26 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 加藤知夫 |
| 分类号 | C09G1/14(2006.01);C09G1/02(2006.01);H01L21/304(2006.01) | 主分类号 | C09G1/14(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 陈平 |
| 主权项 | 1.一种水性抛光液，其包含：氧化剂，含有至少3个氮原子的五元单环化合物或其中杂环与所述化合物稠合的化合物；和具有咪唑骨架或异噻唑啉-3-酮骨架的化合物，将含有至少3个氮原子的五元单环化合物和/或其中杂环与所述化合物稠合的化合物以小于300mg/L的总浓度使用，并且将具有咪唑骨架或异噻唑啉-3-酮骨架的化合物以至少10mg/L但不大于500mg/L的浓度使用。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||