发明名称 |
取向膜的形成方法、取向膜、电子器件用基板、液晶面板 |
摘要 |
本发明可以提供耐光性优良,而且能够产生偏转预倾角的取向膜,提供具备这样的取向膜的电子器件用基板、液晶面板和电子仪器,另外,提供这样的取向膜的形成方法。本发明的取向膜的形成方法,是在基体材料上形成取向膜,其特征在于,蒸发碳,同时在基体材料的形成取向膜的面上,只从相对于与该面垂直的方向倾斜所定的角度θ<SUB>a</SUB>的方向照射含有氮离子的离子束。上述所定的角度θ<SUB>a</SUB>是45~89°。含有氮离子的离子束的加速电压是100~500V。含有氮离子的离子束的电流是10~500mA。 |
申请公布号 |
CN1308755C |
申请公布日期 |
2007.04.04 |
申请号 |
CN200410074949.2 |
申请日期 |
2004.09.01 |
申请人 |
精工爱普生株式会社 |
发明人 |
太田英伸;远藤幸弘 |
分类号 |
G02F1/1337(2006.01) |
主分类号 |
G02F1/1337(2006.01) |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
李香兰 |
主权项 |
1.一种取向膜的形成方法,在基体材料上形成取向膜,其特征在于,用蒸发源蒸发碳,同时在上述基体材料的形成上述取向膜的面上,只从相对于与该面垂直的方向倾斜所定的角度θa的方向照射含有氮离子的离子束。 |
地址 |
日本东京 |