| 摘要 |
<p>Den foreliggende oppfinnelsen angår et nanopregestempel for preging av strukturer i nanometerstørrelse til mm-størrelse, idet stempelet (1) har en basisdel og en første og en andre pregeseksjon (2, 3), idet den første og den andre pregeseksjon har et litografisk mønster (7) som er beregnet til preging i et mottakssubstrat. I et første aspekt er den første og den andre pregeseksjon (2, 3) uavhengig av hverandre forskyvelige i en retning som i det vesentlige er parallell med en pregeretning for pregestempelet. I et andre aspekt er den første og den andre pregeseksjon (2, 3) mekanisk svakt koblet i en retning som i det vesentlige er parallell med en pregeretning for pregestempelet. Stempelet begrenser virkningen av defekter i eller på det substrat som skal preges med et litografisk mønster (7) og defekter i eller på stempelet og hvilke som helst kombinasjoner av slike defekter ved lokalisering av stempelets bøyning til basisdelen (5) mellom pregeseksjonene (2, 3).</p> |
