| 摘要 |
本发明系揭露一种绝缘基板边缘区域处理方法与装置，此设备配置有一隔绝器，用来隔绝及透过乾式化学技术处理包括基板边缘区域之部份基板，且隔绝器具有喷嘴与清洗室，当基板在承载座上进行旋转时，喷嘴会朝向基板之边缘区域射出包含反应物质之流体，清洗室则可引导反应气体之流体往排气室流出，并藉由流体控制来避免反应物质以及反应副产物的迁移流出处理区域外面，而具有此隔绝器之基板边缘区域处理方法，系利用清洗室与排气室所提供之流体控制，进一步以特定角度将反应气体之流体喷射至基板之边缘区域，来形成围绕在处理区域周围之边界。 |
