选择性电浆处理方法

摘要

本发明提供一种选择性电浆处理方法，系在电浆处理装置的处理室内，对表面具有矽与氮化矽层的被处理体，使含氧电浆作用，以将矽选择性地进行氧化处理，使氮化矽层中所形成之氮氧化矽膜之膜厚，相对于所形成之氧化矽膜之膜厚的比例为20％以下。