用于二氧化矽及氮化矽层之可印刷蚀刻介质

摘要

本发明系关于用于在生产太阳能电池中蚀刻表面之具有非牛顿流动行为(non-Newtonian flow behaviour)之新颖可印刷蚀刻介质及其用途。本发明此外亦关于适用于蚀刻无机层亦及掺杂下层之各种蚀刻及掺杂介质，特别系关于相应之含粒子组合物，藉助于此组合物可极具选择性地蚀刻极为精细之结构而不会损坏或侵蚀邻近区域。