发明名称 去光阻剂
摘要 本发明提供一种用以清洗光阻剂,特别是清洗彩色滤光片制程中而使用之颜料分散型光阻剂的去光阻剂。本发明去光阻剂包含10–70重量百分比之乙酸乙二醇丁醚酯(PGMEA)、10–80重量百分比之具有6–10个碳原子的苯环化合物,及/或10–40重量百分比之酮系化合物。本发明之去光阻剂与光阻剂之亲和性高,因此对于光阻剂有良好的溶解清洗力,故能达到快速清洗并降低有机溶剂使用量之功效。
申请公布号 TW200712797 申请公布日期 2007.04.01
申请号 TW094132307 申请日期 2005.09.19
申请人 李长荣化学工业股份有限公司 发明人 刘兴基;吴宗翰;周世明;陈宏成
分类号 G03F7/32(2006.01) 主分类号 G03F7/32(2006.01)
代理机构 代理人 恽轶群;陈文郎
主权项
地址 台北市松山区八德路4段83号4楼