发明名称 光碟制造用原盘之制作方法及光碟之制造方法
摘要 本发明系一种光碟制造用原盘之制作方法及光碟之制造方法,其包含:曝光步骤,对形成于基板100上之无机光致抗蚀剂层101,照射藉由与光碟上形成之资讯凹凸图案的资讯信号相对应之资讯信号而调变之记录用雷射光,而形成与上述光碟之上述资讯凹凸图案对应的曝光图案;以及显像步骤,之后对上述无机光致抗蚀剂层进行显像处理,形成相应上述无机光致抗蚀剂层之上述资讯凹凸图案的凹凸图案;且于上述曝光步骤中,对上述光致抗蚀剂层之非记录区域进行试曝光后,对该曝光区域照射评价用雷射光,且自该反射光进行上述光致抗蚀剂层之记录信号特性的评价,并基于该评价结果决定之后进行之记录用雷射光的最佳焦点位置,如此于曝光步骤中自光致抗蚀剂层上之曝光部分的记录信号特性将光碟之记录信号特性(抖动值)进行预测评价,并根据该评价结果适当地调整曝光焦点位置,如此便可制得具有适当正确之凹凸图案的原盘,进而制得特性优良之光碟。
申请公布号 TWI277972 申请公布日期 2007.04.01
申请号 TW093100237 申请日期 2004.01.06
申请人 新力股份有限公司 发明人 甲斐慎一;荒谷胜久;河内山彰;中川谦三;竹本祯广
分类号 G11B7/26(2006.01) 主分类号 G11B7/26(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 1.一种光碟制造用原盘之制作方法,其特征在于含 有: 曝光步骤,对于形成于基板上之无机光致抗蚀剂层 ,照射藉由与形成于上述光碟之资讯凹凸图案的资 讯信号相对应的资讯信号而调变之记录用雷射光, 形成与上述光碟之上述资讯凹凸图案对应的曝光 图案;以及 显像步骤,其后对于上述无机光致抗蚀剂层进行显 像处理,形成与上述无机光致抗蚀剂层所形成之上 述资讯凹凸图案对应之凹凸图案;且 上述曝光步骤中,于上述光致抗蚀剂层之非记录区 域进行试曝光后,将评价用雷射光照射于该曝光部 分,并根据其反射光进行上述光致抗蚀剂层之记录 信号特性的评价,并基于该评价结果,进行决定之 后进行之记录用雷射光的最佳焦点位置的曝光焦 点位置调整。 2.如申请专利范围第1项之光碟制造用原盘之制作 方法,其中上述无机光致抗蚀剂层为含有过渡金属 之不完全氧化物的光致抗蚀剂层。 3.如申请专利范围第1项之光碟制造用原盘之制作 方法,其中上述评价用雷射光所照射之区域为上述 记录用雷射光之照射区域以外的区域。 4.如申请专利范围第2项之光碟制造用原盘之制作 方法,其中上述评价用雷射光所照射之区域为上述 记录用雷射光之照射区域以外的区域。 5.一种光碟之制造方法,其包含光碟制造用原盘之 制作步骤、自上述原盘转印制作光碟制造用之压 模的压模制作步骤.根据上述压模转印制造光碟基 板之光碟基板制作步骤、该光碟基板上之反射膜 之成膜步骤、以及保护膜之成膜步骤;其特征在于 : 上述原盘之制作步骤含有: 曝光步骤,对形成于基板上之无机光致抗蚀剂层, 照射藉由与形成于上述光碟之资讯凹凸图案的资 讯信号相对应的资讯信号而调变之记录用雷射光, 形成与上述光碟之上述资讯凹凸图案对应的曝光 图案;以及 显像步骤,其后相对于上述无机光致抗蚀剂层进行 显像处理,形成与上述无机光致抗蚀剂层之上述资 讯凹凸图案对应之凹凸图案; 上述曝光步骤中,于上述光致抗蚀剂层之非记录区 域进行试曝光后,将评价用雷射光照射于该曝光部 分,并根据其反射光进行上述光致抗蚀剂层之记录 信号特性的评价,并基于该评价结果,进行决定之 后进行之记录用雷射光的最佳焦点位置的曝光焦 点位置调整。 6.如申请专利范围第5项之光碟之制造方法,其中上 述无机光致抗蚀剂层为含有过渡金属之不完全氧 化物的光致抗蚀剂层。 7.如申请专利范围第5项之光碟之制造方法,其中上 述评价用雷射光之照射区域为上述记录用雷射光 之照射区域以外的区域。 8.如申请专利范围第6项之光碟之制造方法,其中上 述评价用雷射光之照射区域为上述记录用雷射光 之照射区域以外的区域。 图式简单说明: 图1A~图1J系适用本发明之曝光焦点位置调整方法 之光碟的制造步骤图。 图2系表示于适用本发明之光致抗蚀剂层曝光步骤 中使用之曝光装置的模式图。 图3系表示本发明之曝光焦点位置调整方法中之曝 光时之焦点偏向电压値与曝光原盘之评价信号之 抖动値的关系示意图。 图4系表示本发明之曝光焦点位置调整方法中之曝 光时之焦点偏向电压値与光碟之再生信号之抖动 値的关系示意图。 图5系表示本发明之曝光焦点位置调整方法中之曝 光时之焦点偏向电压値与曝光原盘之评价信号之 调变度的关系示意图。 图6A~图6J系习知之光碟之制造步骤图。
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