| 主权项 |
1.一种微影装置,其包含: 一照明系统,其供给一辐射投影束; 个别可控制元件之一阵列,其用于在其横截面上赋 予该投影束一图案; 一基板台,其固持一基板;及 一投影系统,其将该经图案化之光束投影至该基板 之一目标部分上; 其中该照明系统包括一光束传递系统,其具有至少 一辐射光束偏转元件及至少一辐射输入端,该辐射 输入端自个别辐射源接收复数个源辐射光束,该至 少一辐射光束偏转元件经配置以沿一单个共用光 束路径偏转该等所接收源辐射光束之每一者,以提 供该辐射投影束。 2.如请求项1之装置,其中该等源辐射光束之每一者 为一包括一周期性系列之辐射脉冲的脉冲辐射光 束,其中该投影束包括一系列离散辐射脉冲,且其 中该投影束中之每一辐射脉冲系由一来自一个别 单个源辐射光束之个别单个脉冲所形成。 3.如请求项2之装置,其中该等源辐射光束之每一者 具有大体上相同之辐射波长,且该等周期性系列辐 射脉冲之每一者具有大体上相同之重复频率。 4.如请求项1之装置,其中该投影束包括一周期性系 列之辐射脉冲群,且其中以足以允许该等可控制元 件之至少一者之组态改变的时段来分离每一脉冲 群。 5.如请求项4之装置,其中该光束传递系统进一步包 含一群强度控制器,其经配置以控制每一群内之至 少一脉冲之强度,以确保每一群之该辐射强度在预 定限度内。 6.如请求项5之装置,其中该群强度控制器经配置以 选择性地抑制该至少一脉冲提供至该脉冲群。 7.如请求项5之装置,其中该群强度控制器经配置以 可控制地衰减该至少一脉冲之强度。 8.如请求项5之装置,其中该至少一脉冲包含每一群 中之最后脉冲,且该群强度控制器经配置以取决于 该群内其它脉冲之所量测强度来控制该强度。 9.如请求项5之装置,其中该至少一脉冲包含每一群 中之最后脉冲,且该群强度控制器经配置以取决于 该群内该等脉冲之每一者之所量测强度来控制该 强度。 10.如请求项1之装置,其中该至少一辐射光束偏转 元件包含一可控制辐射光束偏转元件,该等所接收 源辐射光束之每一者入射于该可控制辐射光束偏 转元件,其起作用以沿该单个共用光束路径偏转每 一所接收源辐射光束。 11.如请求项1之装置,其中该等源辐射光束之每一 者经偏振,且该至少一辐射光束偏转元件包含至少 一偏振光束分光器。 12.如请求项11之装置,其中该光束传递系统进一步 包含一可控制偏振改变元件,其经配置以改变入射 辐射之偏振状态。 13.如请求项1之装置,其进一步包含提供该复数个 源辐射光束之该等个别辐射源。 14.一种投影一图案至一基板之方法,其包含: 自复数个对应辐射源接收复数个源辐射光束; 沿一共用光束路径偏转该复数个源辐射光束,藉此 产生一辐射投影束; 赋予该辐射投影束一横截面图案;及 将该经图案化之辐射投影束投影至一基板之一目 标部分。 15.如请求项14之方法,其中该等源辐射光束之每一 者为一包括一周期性系列辐射脉冲之脉冲辐射光 束,且其中该辐射投影束包括一系列离散辐射脉冲 ,该辐射投影束中之每一辐射脉冲系由一来自一个 别源辐射光束之个别脉冲所形成。 16.如请求项15之方法,其中该等源辐射光束之每一 者具有大体上相同之辐射波长,且其中该等周期性 系列辐射脉冲之每一者具有大体上相同之重复频 率。 17.如请求项14之方法,其中该投影束包含一周期性 系列之辐射脉冲群,且其中以足以允许该等可控制 元件之至少一者之组态改变的时段来分离每一脉 冲群。 18.如请求项17之方法,其中每一脉冲群包含一来自 每一源辐射光束之脉冲。 19.如请求项17之方法,其中控制每一群内至少一脉 冲之强度,以便确保每一群之总辐射强度在预定限 度内。 20.一种平板显示器,其根据如请求项14之方法制造 。 图式简单说明: 图1为一微影装置之方块图。 图2为一多源投影束之时序图。 图3为适于提供图2说明之多源投影束之光束传递 系统的方块图。 图4为适于提供图2说明之多源投影束之另一多源 光束传递系统的方块图。 图5为一多源投影束之另一时序图。 图6为另一多源光束传递系统之方块图。 图7为适于提供图5说明之投影束之另一多源光束 传递系统的方块图。 |
