发明名称 雷射光入射光学装置
摘要 采用含有石英之材质,对于芯径而言之纤壳,厚度为0.035~0.1倍,数值孔径NA为0.06~0.22之阶变折射型光纤(101)。经由在于光纤之入射端面(102)将来自尖锋功率超过10MW之巨脉波振荡方式的固体雷射振荡器(111)之雷射光(L),呈发散性入射,可在光纤不会受损的情形下传送雷射光。
申请公布号 TWI277730 申请公布日期 2007.04.01
申请号 TW094102763 申请日期 2005.01.28
申请人 东芝股份有限公司;东芝电子管器件股份有限公司 发明人 石桥诚
分类号 G01N21/00(2006.01) 主分类号 G01N21/00(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种雷射光入射光学装置,用以将尖锋功率大于 10MW之巨脉波振荡方式的固体雷射振荡器之雷射光 ,入射至光纤之入射端面,其特征具有为: 使从前述固体雷射振荡器之雷射光聚光的聚光透 镜;及 于较此聚光透镜所成雷射光之聚光点后方之特定 位置,设置光纤之入射端面,使前述雷射光呈发散 性入射至光纤之入射端面的光纤位置调整机构;且 前述光纤系含有石英之材质,对于芯径之纤壳厚度 为0.035-0.1倍,数値孔径NA为0.06-0.22之阶变折射型者 。 2.如申请专利范围第1项之雷射光入射光学装置,其 中 前述光纤之芯径为500-1500m,纤壳厚度为35-100m 。 3.如申请专利范围第1或2项之雷射光入射光学装置 ,其中 雷射光以半角为0.06-0.22rad、及于光纤以固有之入 射临界之其中任一角度,入射至前述光纤之入射端 面。 4.如申请专利范围第1或2项之雷射光入射光学装置 ,其中 前述光纤位置调整机构乃使光纤之入射端面,位于 聚光透镜所成雷射光聚光点后方1-16mm之位置。 5.如申请专利范围第4项之雷射光入射光学装置,其 中 前述光纤位置调整机构乃使光纤之入射端面,设置 于聚光透镜所成雷射光聚光点后方1.5-5mm之位置。 6.如申请专利范围第1或2项之雷射光入射光学装置 ,其中 更具备设于固体雷射振荡器及聚光透镜之间之半 透明镜、及可透过该半透明镜,观测光纤之入射端 面之光像的观测手段。 图式简单说明: 第1图系本发明之雷射光入射光学装置之实施形态 之实例概略图。 第2图系说明发散入射方式之聚光光学系之传送模 式之概略图。 第3图系对光纤之入射角及聚光透镜之焦点距离之 关系图。 第4图系对光纤之入射角及聚光透镜之入射发散角 之关系图。 第5图系对光纤之入射方式及传送能量之关系图。 第6A图系光纤之轴线方向之剖面图。 第6B图系与第6A图所示之光纤之轴线方向垂直相交 之方向之剖面图。 第7图系纤壳厚度及传送能量之关系图。 第8图系芯径及传送能量之关系图。 第9图系对光纤之入射角及传送能量之关系图。 第10图系本发明之雷射光入射光学装置之其他实 施形态之概略图。 第11图系组合着本发明之雷射光入射光学装置之 雷射诱导萤光分析装置之实例概略图。
地址 日本